Please use this identifier to cite or link to this item: https://olympias.lib.uoi.gr/jspui/handle/123456789/16827
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorVlachos, D.en
dc.contributor.authorCraven, A. J.en
dc.contributor.authorMc Comb, D.W.en
dc.date.accessioned2015-11-24T18:33:52Z-
dc.date.available2015-11-24T18:33:52Z-
dc.identifier.urihttps://olympias.lib.uoi.gr/jspui/handle/123456789/16827-
dc.rightsDefault Licence-
dc.titleThe influence of dopant concentration on the oxygen K-edge ELNES and XANES in yttria-stabilised zirconiaen
heal.typejournalArticle-
heal.type.enJournal articleen
heal.type.elΆρθρο Περιοδικούel
heal.accesscampus-
heal.recordProviderΠανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Επιστημών και Τεχνολογιών. Τμήμα Βιολογικών Εφαρμογών και Τεχνολογιώνel
heal.publicationDate2001-
heal.journalNameJ. Phys.en
heal.journalTypepeer reviewed-
heal.fullTextAvailabilityTRUE-
Appears in Collections:Άρθρα σε επιστημονικά περιοδικά ( Ανοικτά)



This item is licensed under a Creative Commons License Creative Commons