Please use this identifier to cite or link to this item:
Institution and School/Department of submitter: Πανεπιστήμιο Ιωαννίνων. Σχολή Θετικών Επιστημών. Τμήμα Μηχανικών Επιστήμης Υλικών
Keywords: dielectric properties,electronic transitions,cerium oxide films,pulsed-laser deposition,ceo2 thin-films,optical-properties,epitaxial-growth,silicon,si(111),layers,temperature
ISSN: 0921-5107
Link: <Go to ISI>://000221657000016
Publisher: Elsevier
Appears in Collections:Άρθρα σε επιστημονικά περιοδικά ( Ανοικτά)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Logothetidis-2004-Dielectric propertie.pdf333.71 kBAdobe PDFView/Open    Request a copy

This item is licensed under a Creative Commons License Creative Commons